ヘテロ接合太陽電池セルは、非常に薄いアモルファス結晶層でコーティングされたn型結晶シリコンウェーハに基づいています。 セル構造は、従来のセル技術に対する効率の利点をもたらします。

太陽電池セルは、負に帯電したN型セルと正に帯電したP型セルで層構造が異なります。 ベース層にホウ素がドープされているせるはP型セルであり、シリコンより電子一個分が少なく、 正孔が生成され、正電荷キャリアが優勢になります。 N型セルでは、ベース層にリンがドープされており、 自由電子を生成するシリコンよりもい子分多い電子を持っています。

自由電子は、N型セルの高い効率を可能にするだけではなく、電力損失を低くし、PIDやLIDなどの現象を防ぎます。